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二氧化硫復(fù)合鹽霧試驗(yàn)箱用途
1.設(shè)備特點(diǎn)及用途
設(shè)備利用二氧化硫氣體及鹽霧混合，在一定的溫度和濕度的環(huán)境下對(duì)材料或產(chǎn)品進(jìn)行加速腐蝕，重現(xiàn)材料或產(chǎn)品在一定時(shí)間范圍內(nèi)所遭受的破壞程度。設(shè)備可以用來(lái)考核材料及其防護(hù)層的抗二氧化硫和鹽霧腐蝕能力，以及相似防護(hù)層的工藝質(zhì)量比較，也可以用來(lái)考核某些產(chǎn)品抗二氧化硫和鹽霧腐蝕的能力。
設(shè)備主要部件選用國(guó)際國(guó)內(nèi)廠(chǎng)家的優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品，確保整機(jī)質(zhì)量性能。
設(shè)備符合ASTM G85中附件A4二氧化硫鹽霧循環(huán)試驗(yàn)、GB/T 2423.33-2005《高濃度二氧化硫腐蝕試驗(yàn)》、GB/T 9789-2008《金屬和其他無(wú)機(jī)覆蓋層 通常凝露條件下的二氧化硫腐蝕試驗(yàn)》、GB/T 10125-2012《人造氣氛腐蝕試驗(yàn) 鹽霧試驗(yàn)》、GB/T 2423.17《電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn) 第2部分：試驗(yàn)方法 試驗(yàn)Ka：鹽霧》、GB/T 5170.8《電工電子產(chǎn)品環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備檢驗(yàn)方法 鹽霧試驗(yàn)設(shè)備》、GB/T 10587《鹽霧試驗(yàn)箱技術(shù)條件》等相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。
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